9月6日，荷蘭政府今天發(fā)布了關于兩款浸沒式 DUV（深紫外光） 光刻機出口的最新許可要求，該規(guī)定將于9月7日正式生效。
根據(jù)更新后的許可要求，并根據(jù)美國出口管理條例 734.4.(a).(3)，ASML后續(xù)需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可，才能出貨其 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i DUV 浸沒式光刻系統(tǒng)。此前，荷蘭的出口管制許可要求已適用于 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù) DUV 浸沒式系統(tǒng)。ASML 的 EUV 系統(tǒng)的銷售也需遵守許可要求。
ASML官方表示，認為這一新規(guī)主要是協(xié)調(diào)頒發(fā)出口許可證的方式，即由美國政府發(fā)放許可變更為由荷蘭政府發(fā)放許可。
ASML在聲明中指出，由于這是技術性調(diào)整，因此預計不會對公司2024年的財務前景，或在2022年11月投資者日傳達的長期情景產(chǎn)生任何影響。
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