8 月 5 日消息，璞璘科技 PRINANO 今日宣布其在 8 月 1 日成功向一家國內特色工藝客戶交付其自主研發的中國首臺半導體級步進式納米壓印光刻 (NIL) 系統 PL-SR。
璞璘在 PL-SR 系列設備上成功攻克噴墨涂膠工藝多項技術瓶頸，實現了納米級的壓印膜厚，達到了平均殘余層＜10nm、殘余層變化＜2nm、壓印結構深寬比＞7:1 的技術指標，可對應線寬＜10nm 的 NIL 工藝。
璞璘科技表示其 PL-SR 系列噴墨步進式納米壓印設備目前已經初步完成存儲芯片、硅基 (oS) 微顯示器、硅光 (SiPh) 及先進封裝 (AVP) 等芯片研發驗證；其最小可實現 20mm×20mm 壓印模板均勻拼接，最終可實現 12 英寸晶圓級超大模板。
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