ASML對外展示了最新EUV光刻機(jī)內(nèi)部畫面，或許在他們看來，就算把這些全部展現(xiàn)給大家看，也沒辦法來偷師他們的技術(shù)。
該系統(tǒng)已獲得英特爾公司的訂單，首臺(tái)機(jī)器已于去年年底運(yùn)抵其位于俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計(jì)劃在 2025 年年底開始使用該系統(tǒng)進(jìn)行生產(chǎn)。
High-NA EUV光刻機(jī)能夠在半導(dǎo)體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產(chǎn)品的1/1.7。更細(xì)的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實(shí)現(xiàn)更快的處理速度和更高的存儲(chǔ)容量，這對于人工智能工作負(fù)載至關(guān)重要。
該公司上季度收到了創(chuàng)紀(jì)錄的頂級(jí)EUV光刻機(jī)訂單，顯示了包括英特爾、三星電子和臺(tái)積電在內(nèi)的大客戶對該技術(shù)的樂觀預(yù)期，由于種種因素限制，中國廠商是沒辦法被允許購買這些設(shè)備的。
有網(wǎng)友甚至感慨，即便這些內(nèi)部結(jié)構(gòu)展示給國產(chǎn)廠商，可能真正阻礙下也沒辦法去逆向推演復(fù)刻。
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