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三星完成400層NAND Flash開發(fā)

最快2025年二季度末量產(chǎn)
2024-12-10
來源:芯智訊
關(guān)鍵詞: 三星 NAND SK海力士 內(nèi)存

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12月9日消息,根據(jù)韓國媒體BusinessKorea報道稱,三星電子在其半導(dǎo)體研究所中已經(jīng)成功完成了突破性400層堆疊NAND Flash閃存技術(shù)的開發(fā)。同時,三星也自上個月開始,將這項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)轉(zhuǎn)移到其平澤園區(qū)一號工廠中大規(guī)模生產(chǎn)線。而這一重要的里程碑的達(dá)成,將使得三星處于NAND Flash技術(shù)的領(lǐng)先位置,將有望領(lǐng)先已經(jīng)宣布計(jì)劃量產(chǎn)321層NAND Flash的SK海力士

此前的消息顯示,三星電子計(jì)劃于2025年2月在美國舉行的2025年國際固態(tài)電路會議(ISSCC)上詳細(xì)介紹其1Tb容量400層堆疊TLC NAND Flash閃存,并且預(yù)計(jì)將于2025年下半年正式開始量產(chǎn)。不過,一些市場專家預(yù)測,如果加快進(jìn)程,大量生產(chǎn)的階段可能會在明年第二季結(jié)束時開始。

除了400層NAND Flash閃存之外,三星電子2025年增加其先進(jìn)內(nèi)存產(chǎn)品線的產(chǎn)量。其中,三星電子計(jì)劃在平澤園區(qū)安裝新第9代(286層堆疊)的NAND Flash閃存生產(chǎn)設(shè)施,月產(chǎn)能為30,000至40,000片晶圓。此外,在中國西安工廠,三星將繼續(xù)將128層堆疊(V6)NAND Flash閃存生產(chǎn)線,轉(zhuǎn)換為236層堆疊(V8)NAND Flash閃存產(chǎn)品制程。

報道指出,三星電子400層堆疊NAND Flash閃存的開發(fā)代表了相關(guān)技術(shù)的重大進(jìn)步。三星電子早在2013年就推出的3D NAND Flash閃存,提升了容量與讀取速率之后,隨著最新的400層堆疊TLC NAND Flash閃存的開發(fā)完成,顯示哲該公司在相關(guān)技術(shù)上的顯著進(jìn)步。

三星電子目前在全球NAND Flash閃存市場市占率取得領(lǐng)先的位置,市占率為36.9%。不過,SK海力士率先在2023年量產(chǎn)238層堆疊的NAND Flash閃存,最近又宣布計(jì)劃量產(chǎn)321層堆疊的NAND Flash閃存,帶給三星很大壓力。

NAND Flash閃存市場近期受到多種因素的影響,包括消費(fèi)者需求、定價趨勢,以及人工智能(AI)和數(shù)據(jù)中心等數(shù)據(jù)密集型應(yīng)用的興起,在數(shù)據(jù)中心用NAND Flash的銷售量不斷增加情況下,市場需求逐漸加溫。然而,11月128Gb MLC的產(chǎn)品近期的交易價格下降了29.8%,均價為2.16美元。根據(jù)市場調(diào)研機(jī)構(gòu)TrendForce的分析,雖然2024年第四季NAND Flash價格預(yù)計(jì)下跌了3-8%,但企業(yè)級固態(tài)硬盤(SSD)仍預(yù)計(jì)將上漲了5%。

報道強(qiáng)調(diào),在三星電子準(zhǔn)備大規(guī)模生產(chǎn)400層堆疊TLC NAND Flash閃存的同時,該公司也專注于優(yōu)化晶圓良率。目前NAND Flash研發(fā)階段的良率為10-20%。該技術(shù)成功轉(zhuǎn)移到生產(chǎn)線后,練綠的持續(xù)提升對于達(dá)成更高的產(chǎn)量和滿足市場需求將成為重要關(guān)鍵。


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