5月25日消息，據國外媒體報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。
俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產350nm的芯片。
在俄羅斯看來，盡管350nm的芯片技術相較之下顯得落后，但它在汽車、能源和電信等諸多行業中仍有著應用價值。
這意味著，俄羅斯在自主發展半導體技術的道路上取得了突破，有望減少對外部技術的依賴，提升國內產業的自主性和競爭力。
之前俄羅斯已經表示，計劃到2026年實現65nm的芯片節點工藝，2027年實現28nm本土芯片制造，到2030年實現14nm國產芯片制造。
要知道，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發展機構早已表示，旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡，在2028年開發出可以生產7納米芯片的光刻機，還可擊敗ASML同類產品。
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