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SK海力士采用EUV量產第四代10nm級DRAM

2021-07-13
來源:OFweek電子工程網
關鍵詞: SK海力士 EUV 10nm DRAM

K海力士宣布,開始啟用EUV光刻機閃存內存芯片。

具體來看,已經于7月初開始量產適用第四代10nm(1a)級工藝的 8Gigabit(Gb) *LPDDR4 移動端DRAM(動態隨機存儲器)產品。

此次SK海力士量產的1a納米級工藝是繼1x(第一代)、1y(第二代)、1z(第三代)之后的第四代工藝節點。SK海力士預計從下半年開始向智能手機廠商供應采用1a nm級技術的移動端 DRAM。

在此之前,SK海力士曾在生產1y nm級產品中部分采用了EUV技術,完成了對其穩定性的驗證。這對采用EUV技術進行量產DRAM產品具有非凡的意義。

相比于前一代1z nm級工藝,1a nm級DRAM在每一張晶圓中可產出的產品數量約提高了25%,帶來了生產效率的提升和更高的成本競爭力。1a nm級DRAM穩定支持 LPDDR4 移動端DRAM規格的最高速度(4266Mbps),并相較前一代產品其功耗也降低了約20%。SK海力士認為此次新產品進一步強化了低功耗的優勢,助力碳排放量的減少,充分體現了SK海力士注重ESG(環境、社會、公司治理)經營的精神理念。

啟用EUV技術光刻機閃存內存芯片的還包括三星和美光,不過美光時間上要更晚一些,預計在2024年生產新的EUV內存芯片。




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