眾所周知，半導體工藝是非常高精密的高科技工藝，像臺積電這種新工藝界的帶頭人也不可能自己完全搞定，而是依賴整個產業鏈的設備和技術供應，比如大家比較熟悉的光刻機，但是設備僅僅來自荷蘭ASML（阿斯麥）一家。
ASML一年最多可以生產12臺EUV光刻機（NXE：3400B），單臺價格超過8億人民幣，媲美一架美軍F35戰機。臺積電在去年砸錢搶到了幾臺，才讓其7nm EUV極紫外光刻工藝芯片完成首次流片，并且臺積電的7nm產線已經被AMD等大廠預定。
不過從更先進的5nm工藝時代開始，這一壟斷恐怕要打破了。近日有實錘在臺積電的5nm生產線中，就有來自我國深圳中微半導體的5nm等離子體蝕刻機，完全自主研發，并且已經通過了臺積電的驗證，臺積電的5nm工藝就靠它。中微半導體CEO尹志堯驕傲地形容說：“在米粒上刻字的微雕技藝上，一般能刻200個字已經是極限，而我們的等離子刻蝕機在芯片上的加工工藝，相當于可以在米粒上刻10億個字的水平?！眹a能有這樣的成就，中國芯片將屹立世界之巔可不是玩笑話了。
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