中國上海，2018年1月26日電——國家知識產權局專利復審委員會（以下簡稱“專利復審委”）于1月23日作出審查決定書，認定美國維易科精密儀器有限公司（以下簡稱“Veeco美國”）的第ZL 01822507.1號、名稱為“通過化學汽相沉積在晶片上生長外延層的無基座式反應器”的發明專利的全部權利要求因不具有新穎性和創造性而無效。

該被宣告無效的專利為去年Veeco美國在美國紐約東區法院起訴中微的基片托盤供應商專利侵權的涉案美國專利（US 6,506,252、US 6,726,769）的中國同族專利。

中微半導體設備（上海）有限公司（以下簡稱“中微”）在剛開始研發自己的MOCVD產品技術時就已充分分析過此專利，中微發現該專利技術從上個世紀60年代以來就被大量前置專利公開，因而應屬無效專利。中微對該涉案專利的中國、韓國和美國同族專利均已提交了無效宣告請求。

“我非常高興地看到，專利復審委基于我方提交的強有力的證據認定Veeco美國的專利無效。”中微資深副總裁、首席運營官兼MOCVD產品事業部總經理杜志游博士說：“我們有信心美國專利商標局和韓國知識產權局的專利審判和上訴委員會也能得出同樣的結論。”

杜志游博士補充道：“一個可執行的專利權必須滿足專利法要求。我們不能容忍Veeco美國試圖以明顯無效的專利來行使知識產權，通過起訴中微的基片托盤供應商達到限制競爭的商業目的。”

另一進展發生在2018年1月12日，依據中國法律，中國海關基于中微的第CN 202492576號專利（以下簡稱“中微專利”）采取了知識產權保護措施，暫時扣押了Veeco Asia公司進口至中國的兩臺涉嫌侵犯中微專利的EPIK700型號的MOCVD設備。針對此涉嫌侵權設備，中微正考慮采取后續法律行動，包括可能向中國法院提起專利侵權訴訟。

在此之前，去年12月，福建省高級人民法院同意了中微針對Veeco上海的禁令申請，禁止其進口、制造、向任何第三方銷售或許諾銷售侵犯中微專利的任何化學氣相沉積裝置和用于該等裝置的基片托盤。 

中微董事長兼首席執行官尹志堯博士說：“中微不能容忍任何侵犯中微知識產權的行為。我們將嚴厲打擊侵犯中微知識產權的行為，全力保護我們的知識產權投資。當然，我們更愿意集中精力在創新產品的研發和為客戶提供優質服務上，而不是浪費時間和資源在法律訴訟上。”

尹志堯博士總結道：“中國LED產業不應當因Veeco美國、基片托盤供應商和中微之間的專利訴訟而受干擾和受損。因此，中微愿意達成一個有利于所有三方的解決方案。”