全球第三大半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML于4月28日表示，已對(duì)尼康（Nikon）提出反訴。

ASML解釋該事件的來龍去脈，ASML和Nikon在2004年簽訂了一項(xiàng)專利交叉授權(quán)協(xié)議，部分專利已獲永久授權(quán)，其他專利的授權(quán)日期已于2009年12月31日結(jié)束，雙方同意互不采取法律移動(dòng)的過渡期也在2014年12月31日結(jié)束。

ASML總裁暨執(zhí)行長Peter Wennink強(qiáng)調(diào)，在過去幾年里， ASML曾多次盡全力試圖與Nikon就交叉授權(quán)協(xié)議延展一事進(jìn)行協(xié)商，但Nikon沒有為此做出任何真正的努力，反而選擇控告ASML專利侵權(quán)，公司對(duì)此感到失望。

Peter進(jìn)一步強(qiáng)調(diào)，ASML始終相信，雙方能以協(xié)商的方式來解決，對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言是好的，可以推動(dòng)產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新與合作，更可減少這類讓產(chǎn)業(yè)無法集中精力在真正重要事情上的不必要專利訴訟案件，且Nikon提起的訴訟毫無根據(jù)，這將為整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來不確定性。

據(jù)路透社4月24日消息，日本尼康 宣布在荷蘭、德國與日本針對(duì) ASML（艾司摩爾） 和合作伙伴卡爾蔡司 （Carl Zeiss AG）的專利侵權(quán)提起訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經(jīng) Nikon 的許可下將其微影 （lithography） 技術(shù)專利用于光刻機(jī)上，并運(yùn)用在半導(dǎo)體制造業(yè)中。尼康在訴訟文件中稱，要求 ASML 和 Carl Zeiss AG 對(duì)未授權(quán)使用專利技術(shù)而做出賠償。

尼康曾在半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)叱咤一時(shí)，是全球第八大半導(dǎo)體設(shè)備廠商。據(jù)尼康公布的2017財(cái)年第三季度財(cái)報(bào)（2016年4月1日~12月31日）顯示，營業(yè)利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達(dá)11億人民幣。

當(dāng)前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而 ASML 又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場(chǎng)。據(jù)評(píng)級(jí)機(jī)構(gòu)“惠譽(yù)評(píng)級(jí)”（Fitch Ratings）今年1月發(fā)布的調(diào)研報(bào)告顯示，在高端光刻機(jī)市場(chǎng)，ASML 的份額高達(dá)90%。而 ASML 公布的 2017 年第 1 季財(cái)報(bào)顯示，第 1 季營收凈利達(dá) 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，且預(yù)估第 2 季營收凈利在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

尼康曾是日本半導(dǎo)體制造技術(shù)的代表廠商，1993 年尼康的半導(dǎo)體曝光設(shè)備全球市占率達(dá) 48.4%，幾乎在市場(chǎng)稱王。1984 年設(shè)立的 ASML，在創(chuàng)建初期遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，ASML 市占率開始快速攀升，最后不僅超越尼康，2015 年全球市占率高達(dá) 81%，尼康只剩 12.1%。