全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾（ASML）20日宣布，在臺(tái)積電、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進(jìn)的極紫外光（EUV）已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。

　　EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9，000  萬歐元（約新臺(tái)幣36億元），這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。

　　臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示，臺(tái)積電本季將會(huì)再增購一臺(tái)EUV設(shè)備，不過臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)制程，顯示EUV的輸出率，目前仍處于試驗(yàn)階段。

　　不過，ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得（Peter Wennink）昨天在公布第1季財(cái)報(bào)后，也針對(duì)EUV進(jìn)展，公布重大突破。

　　他強(qiáng)調(diào)，ASML的目標(biāo)是在今年持續(xù)強(qiáng)化EUV系統(tǒng)的生產(chǎn)力和妥善率，并計(jì)畫在今將機(jī)臺(tái)生產(chǎn)力提升到每天曝光1，500片晶圓。

　　他說，今年首季，ASML的EUV系統(tǒng)即展現(xiàn)每天曝光350片晶圓的實(shí)力。在妥善率方面，三個(gè)客戶端的EUV系統(tǒng)都展現(xiàn)連續(xù)四周平均妥善率達(dá)80%以上的成果。

　　至于首季已出貨一臺(tái)最新EUV微影系統(tǒng)NXE:3350B，計(jì)劃第2季出貨兩臺(tái)EUV系統(tǒng)。

　　ASML首季也推出深紫外光（DUV）最新型浸潤(rùn)式機(jī)臺(tái)NXT:1980，并出貨6臺(tái)，且快速將生產(chǎn)力拉升到每天4000片晶圓的水準(zhǔn)。這套系統(tǒng)將應(yīng)用在即將邁入試產(chǎn)的10奈米制程。

　　ASML也于本季推出最新一代的整合式量測(cè)系統(tǒng)YieldStar 350E，提供晶圓更準(zhǔn)確的量測(cè)結(jié)果來做后續(xù)分析。

　　ASML昨天公布首季營(yíng)收13.3億歐元，毛利率42.6%，雙雙超標(biāo)，本季預(yù)期在客戶導(dǎo)入新的浸潤(rùn)式機(jī)臺(tái)為10奈米量產(chǎn)做準(zhǔn)，且擴(kuò)增28奈米制程產(chǎn)能，樂觀預(yù)期會(huì)有強(qiáng)勁成長(zhǎng)。