日前，業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML發(fā)布了公司2020年第三季度的財(cái)報(bào)。財(cái)報(bào)顯示，凈銷(xiāo)售額（net sales）金額為 40 億歐元，凈利潤(rùn)金額（net income）為 11 億歐元，毛利率（gross margin）達(dá)到 47.5%。從訂單上看，公司在第三季度新增訂單（net booking）金額為 29 億歐元。

　　據(jù)該公司首席執(zhí)行官Peter Wennink 介紹，ASML在第三季度一共交付了 10 臺(tái) EUV 系統(tǒng)，并在本季度實(shí)現(xiàn)了 14 臺(tái)系統(tǒng)的銷(xiāo)售收入。而在第三季度的新增訂單達(dá)到 29 億歐元，其中 5.95 億歐元來(lái)自 4 臺(tái) EUV 設(shè)備。從這個(gè)說(shuō)明我們可以看到，ASML EUV光刻機(jī)的售價(jià)約為1.48億歐元，折合人民幣11.74億元。

　　從上圖可以看到，EUV光刻機(jī)占公司營(yíng)收的比重，從上個(gè)月的39%躍升到本月的66%。而從終端用戶(hù)的數(shù)據(jù)來(lái)看，這些購(gòu)買(mǎi)者主要集中在logic方面的客戶(hù)方面。而從該地區(qū)上看，中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)貢獻(xiàn)的營(yíng)收從上季度21%提升到本季度的47%，由此可以見(jiàn)到，這主要是由臺(tái)積電采購(gòu)EUV光刻機(jī)引發(fā)的轉(zhuǎn)變。

　　與此同時(shí)，韓國(guó)貢獻(xiàn)的營(yíng)收正在下降，從中可以看出點(diǎn)端倪，也能理解為何三星的高管最近去荷蘭拜訪ASML總部，相信是為了爭(zhēng)取更多的光刻機(jī)。

　　在談到第四季度的預(yù)測(cè)，ASML方面表示，我們期待第四季度的銷(xiāo)售額將在 36 億歐元到 38 億歐元之間，毛利率約在 50%。研發(fā)成本約 5.5 億歐元， 銷(xiāo)售及管理費(fèi)用約 1.4 億歐元。我們將實(shí)現(xiàn) 2020 年全年的銷(xiāo)售預(yù)期。預(yù)估 2020 年度有效稅率在 14%左右。

　　在發(fā)布EUV財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)的同時(shí)，ASML還帶來(lái)了兩款新設(shè)備，分別是DUV領(lǐng)域的TWINSCAN NXT:2050i和EUV領(lǐng)域的TWINSCAN NXE：3600D

　　ASML進(jìn)一步指出，NXT：2050i 基于 NXT 平臺(tái)的新版本，其中包括掩模版工作臺(tái)，晶圓工作臺(tái)，投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進(jìn)。由于這些創(chuàng)新，該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產(chǎn)率。

　　他們也表示，在 EUV 光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，公司絕大部分 TWINSCAN NXE:3400B 系統(tǒng)在客戶(hù)處同時(shí)進(jìn)行了生產(chǎn)率模組的升級(jí)。而TWINSCAN NXE：3600D 則是公司EUV 路線圖上的新機(jī)型， 30 mJ / cm2 的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光 160 片晶圓， 提高了 18%的生產(chǎn)率， 并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至 1.1 納米。根據(jù)計(jì)劃，他們將于2021 年的中期開(kāi)始發(fā)貨。

　　據(jù)相關(guān)資料顯示，目前，ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C，但主力出貨型號(hào)是3400B。參數(shù)方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時(shí)可曝光125片晶圓。

　　附公司財(cái)報(bào)說(shuō)明會(huì)文件：