俄勒岡州威爾遜維爾，2016 年 3 月 11 日—Mentor Graphics公司（納斯達克代碼：MENT）今日宣布，與三星電子合作，為三星代工廠的10 納米 FinFET 工藝提供各種設計、驗證、測試工具及流程的優化。其中包括 Calibre? 物理驗證套件、Mentor? Analog FastSPICE? (AFS?) 平臺、Olympus-SoC? 數字設計平臺和 Tessent?測試產品套件。這些工具經過優化和認證，使系統芯片 (SoC) 設計工程師快速適應三星代工廠先進的 10 納米工藝，并且對第一次試產就能成功有極大信心。

　　設計風格和制造工藝之間的相互作用在 10 納米會變得更為重要，因此可制造性設計 (DFM) 工具在驗證流程中發揮關鍵作用。三星代工廠已對 Calibre YieldEnhancer 產品，特別是其 SmartFill 和 ECO/Timing-Aware Fill 功能進行認證，幫助設計工程師在多次更改設計的情況下，仍能滿足制造工藝平坦化要求,趕上交付制造期限。為了幫助設計工程師發現和解決潛在的微影相關問題，三星支持 Calibre LFD? 工具的使用，該工具是基于 Mentor 的工藝process-window modeling、光罩合成、光學鄰近效應修正 (OPC) 和分辨率增強 (RET) 的量產制造方案。

　　由于設計團隊可同時處理多個 DFM 元素，他們可使用建在 Calibre Yield Analyzer 工具上的三星 DFM 評分和分析解決方案以簡化決策權衡流程。最后為把制造結果快速反饋到客戶設計流程中，三星支持使用 Calibre Pattern Matching 作為識別造成低良率的圖形并予以修正的解決方案。

　　在物理驗證方面，Calibre nmDRC? 平臺經認證可用于 10 納米工藝，并成為三星研發、IP 驗證和無晶圓廠客戶設計交付的生態系統中標準的驗收簽核方案。此新聞稿的發布標志了三星使用 Calibre Multi-Patterning 作為三重曝光和四重曝光的制造工藝在多年的合作后取得了成功。

　　三星代工廠已確認 Calibre xACT? 能夠在 10 納米中提供高精度和高性能的寄生參數提取。Calibre xACT 工具使用集成的場求解器（field solver）來計算復雜三維 FinFET 結構的寄生參數。它通過高度可擴展的平行處理方法進行性能優化。

　　其他認證則有助于 SoC 設計工程師進行電路驗證、物理應用和 IC 測試。例如，AFS 平臺得到三星 10 納米工藝組件模型和設計套件的認證。共同的客戶使用 AFS，為模擬、射頻、混合信號、存儲器和全定制化數字電路的驗證，提供比傳統 SPICE 仿真器更快的納米級的 SPICE 精確度。

　　Olympus-SoC 布局和布線平臺也已經過認證，可用于 10 納米工藝，具有全面的著色設計方法，包括底層規劃、布局、寄生參數抽取、布線和芯片完成要求。為了解決 FinFET 制造工藝中的特殊挑戰，該平臺支持 M1 三重曝光、色移(color shifting)、非一致布線通道、光罩和寬度依賴間距規則以及其他新增功能。有多個共同客戶正在使用該工具進行設計。

　　在測試方面，Mentor 和三星已展開合作，使 Tessent 測試產品套件可為新單元結構提供 10 納米級更佳的測試質量，同時為更大規模的 10 納米設計測試提供更高的測試圖形壓縮率進而控制成本。兩家公司還利用生產測試診斷來快速識別和消除設計試產擴量階段出現的特定于設計和影響良率的單元特征。

　　“我們與三星代工廠的合作遠非僅僅是將這一先進的工藝帶給我們共同的客戶，”Mentor Graphics Design to Silicon部門副總裁兼總經理Joe Sawicki說道，“該整合解決方案貫穿于設計驗證、制造和測試中，為無晶圓公司和三星代工廠之間建立起了高度整合的橋梁。”