近日，臺灣國立成功大學(xué)和昆山科技大學(xué)合作，在氮化物L(fēng)ED的p電極下插入二氧化硅/鋁多層結(jié)構(gòu)，器件光功率得到明顯提高。這里二氧化硅可以改進(jìn)有源區(qū)的電流擴(kuò)展，降低電流堆積效應(yīng)，而鋁作為放射鏡可以降低p電極對光的吸收，增加藍(lán)寶石襯底" title="藍(lán)寶石襯底">藍(lán)寶石襯底邊光的提取。他們比較了三個LED(普通型作為參照，二氧化硅阻擋層" title="二氧化硅阻擋層">二氧化硅阻擋層的LED，以及二氧化硅阻擋層+鋁反射鏡的LED)，20毫安工作電流下，使用二氧化硅電流阻擋層較傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)器件功率提高15.7%，而使用二氧化硅阻擋層+鋁反射鏡，功率則提高了25.8%。

　　當(dāng)前多數(shù)氮化物L(fēng)ED都是在絕緣的藍(lán)寶石襯底上外延生長的，因此p電極和n電極都在藍(lán)寶石的同側(cè)，這樣金屬電極，特別是距離有源區(qū)近的p電極，都會吸收光而降低了LED光的有效提取。如果通過降低電極厚度來減少對光的吸收，將會引起電流分布不均勻，造成局部高電流密度，產(chǎn)生droop效應(yīng)，降低了LED的效率。因而電流擴(kuò)展問題成為目前困擾LED器件效率提高的一個關(guān)鍵所在。

　　國立成功大學(xué)新提出的反射阻擋層結(jié)構(gòu)，即采用二氧化硅阻擋層+鋁反射鏡，其中鋁反射鏡對430-480納米藍(lán)光的反射率達(dá)到了91%。這種新結(jié)構(gòu)不但改善了電流擴(kuò)展，增加光的提取，而且還降低了反向漏電，5V電壓下反向漏電流從傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的33.2 nA降低到了29.3 nA，這是二氧化硅對表面缺陷的鈍化效應(yīng)引起的。反射阻擋層新結(jié)構(gòu)的一個小缺點是降低了p-GaN和ITO電流擴(kuò)展層的接觸面積，這樣會引起LED工作電壓稍微提高，20mA電流下，電壓從傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的3.6V提高到3.7V。

圖1：光輸出功率/電流對比電壓（L-I-V）（黑色為參考線，紅色為正常堵塞，綠色為阻擋加反射后LED性能）

圖2：氮化物半導(dǎo)體外延結(jié)構(gòu)圖解

圖3：頂端為三種LED的電荷耦合器件圖形
底端為相應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖