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下一代光刻技術延遲 NAND成長或趨緩

2011-08-24
來源:Csia

  在日前的一場閃存高峰會中,SanDisk公司的技術長Yoram Cedar指出,下一代光刻技術的延遲,將導致NAND閃存的成長趨緩。市場原先對閃存的展望都相當樂觀,但Cedar表示,由于超紫外光(EUV)光刻技術的延遲,閃存的成長可能需要再評估。
  
  現有的浸入式光刻工具將能能讓閃存業者前進到小于10nm左右的幾何尺寸,他表示。此外,供應商們也正在努力使用現有晶圓廠工具來建構3D堆疊NAND串,以進一步提升產能和供給量。
  
  而在未來,包括SanDisk在內的芯片制造商都在開發新的3D架構,運用阻抗的變化來建構更高密度的芯片。但是,這種所謂的電阻式RAM(resistiveRAM)將需要EUV工具,他表示。
  
  Cedar拒絕透露任何有關EUV或當前3D芯片研究的具體時間表。不過,他表示,芯片制造商預計將推出采用浸入式工具開發的64和128Gb閃存元件。
  
  “從可用性和成本角度來看,今天半導體產業中,許多人都非常關注EUV的發展,但這項技術將耗資數百萬美元。”Cedar表示。
  
  據報導,今年一月起便有一些預生產的EUV工具開始出貨。而一些報告也指出,EUV工具成本可能高達1.2億美元。
  
  但Cedar很樂觀:EUV終將成為大家都可負擔得起的方案。他還指出,業界一直恐懼摩爾定律即將終結,但迄今這仍然沒有根據。
  
  “當處于90nm時,我們認為要前進到56nm非常困難,且這場工藝競賽很可能隨時結束,”他說。
  
  但好消息是閃存的需求一直很強勁。2015年以前,閃存的預估復合成長率達25%,幾乎是硬盤存儲的一倍,更遠高于目前成長率僅1%的DRAM,他說。
  
  截至2015年,大約三分之一的NAND位元量將應用在多達11部的智能手機中,Cedar表示。而平板電腦在2015年估計可達3.27億部,預估將消耗另外15%的NAND位元量。
  
  “平板電腦代表了一個從零開始,快速成長到規模相當龐大的市場,”他說。“今天市場上有更多創新產品不斷問世,甚至在3~4年都無法預測到它們會如此蓬勃發展,未來這些產品也將維持其發展態勢,”他補充道。
  
  他預計固態硬盤將消耗25%的NAND位元量,其中用戶設備為1.33億部,服務器約1,200萬部。其余的NAND方面約有26%會用在MP3播放器、USB驅動和數碼相機中,他表示。
  
  

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