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臺積電正式公布2nm:功耗降低30%

2022-06-18
來源:21ic
關鍵詞: 臺積電 2nm

6月17日早間消息,臺積電在今日舉辦的2022技術論壇上,首度推出下一代先進制程N2,也就是2nm

技術指標方面,臺積電披露,N2相較于N3,在相同功耗下,速度快10~15%;相同速度下,功耗降低25~30%,開啟高效能新紀元。

就縱向對比來看,2nm之于3nm的提升,似乎不如3nm之于5nm,包括但不限于性能、功耗、密度等所有核心參數。

在微觀結構上,N2采用納米片電晶體(Nanosheet),取代FinFET(鰭式場效應晶體管),外界普遍認為,納米片電晶體就是臺積電版的GAAFET(環繞柵極晶體管)。

臺積電還表示,N2不僅有面向移動處理器的標準工藝,還會有針對高性能運算和小芯片(Chiplet)的整合方案。

時間節奏方面,N2將于2025年量產。

另外,根據臺積電最新技術路線圖,第一代3nm(N3)定于下半年量產,3nm也會比較長壽,后續還有N3E、N3P和N3X。




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