12月24日，日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商東京電子宣布，將于2021年1月發(fā)售清洗機(jī)“CELLESTA SCD”，該產(chǎn)品帶干燥功能，可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過(guò)增加使用“超臨界流體”(基本沒(méi)有表面張力)的干燥工序，防止半導(dǎo)體上的微細(xì)結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機(jī)將用于“微細(xì)化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造，“微細(xì)化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。
據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》網(wǎng)站12月18日?qǐng)?bào)道，新產(chǎn)品在東京電子的枚葉式清洗機(jī)CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專用反應(yīng)室，將用于制造結(jié)構(gòu)不斷微細(xì)化、復(fù)雜化的邏輯半導(dǎo)體及個(gè)人電腦等使用的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器DRAM。
報(bào)道稱，通過(guò)使用超臨界流體，可以降低干燥時(shí)微細(xì)圖案結(jié)構(gòu)被液體表面張力破壞的風(fēng)險(xiǎn)。新產(chǎn)品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題，請(qǐng)及時(shí)通過(guò)電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。