聯電今日發布公告，美國北加州聯邦地方法院于北京時間今日核準聯電與美國司法部和解協議。

    美國司法部于2018年11月，以聯電及若干員工違反聯邦營業秘密保護法為由，對聯電司及若干員工提起刑事訴訟。

    依和解協議，聯電承認侵害一項營業秘密，同意支付美國政府罰金6，000萬美元，并在三年自主管理的緩刑期間內與司法部合作，該金額對聯電財務業務無重大影響。

    聯電表示是，2018年11月美國司法部起訴聯華電子違反聯邦營業秘密保護法案件，聯電已與司法部達成和解，和解協議內容今日經北加州聯邦地方法院判決確定。

    在和解協議中，司法部同意撤銷對聯電原來的指控，包括共謀實施經濟間諜活動、共謀竊取多項Micron （以下簡稱美光） 商業秘密、和專利有關的指控、以及可能從4億到87．5億美元的損害賠償及罰金等。聯電承認侵害一項商業秘密，同意支付美國政府6千萬美元的罰金，并在三年自主管理的緩刑期間內與司法部合作。

    2016年5月，聯電經由經濟部投審會核準，與福建省晉華集成電路有限公司（以下簡稱晉華）簽署了合作協議。依據該協議，聯電與晉華共同開發兩代動態隨機存儲器 （DRAM）制程。協議中所開發的DRAM制程并非最新技術，而是與2012年已用于量產技術相似的舊技術。

    聯電為了DRAM合作案公開招募工程師，不允許任何員工攜帶前公司數據資料到聯電，且針對自身與他人營業秘密已有多項保護與防免的政策與措施，然而兩位參與DRAM合作案的臺灣美光前員工，卻違反與聯電簽訂的雇傭合約與聲明書，攜帶前公司資訊進入聯電并于工作中參考。

    當聯電知悉上述情事時，立即采取必要措施以確認開發的制程技術不包含任何未經授權的資訊。合作協議中所提及的第一代DRAM制程技術在2018年9月依協議移轉給晉華。聯電從無意圖、也未移轉任何未經授權的資訊給晉華。

    然而，依據美國商業秘密保護法，即使員工在公司高層不知情的情況下違反公司政策，公司對于員工行為仍須負法律責任。因此，聯電在和解協議中承認并接受因員工觸法所造成的責任。

    聯華電子董事長洪嘉聰表示：聯電作為引領中國臺灣半導體業發展的公司之一，持續研發半導體及其他技術已四十年，在全球半導體供應鏈中扮演著舉足輕重的角色。聯電超過三分之一的營收來自美國，與美國客戶及供應商都有長久的業務關系。最近，聯電集團更與美國公司合作，生產對抗新冠肺炎所需之呼吸機中的半導體芯片。