本周,圍繞臺(tái)積電的2nm先進(jìn)制程傳來(lái)利好消息。
其2nm GAA工藝研發(fā)進(jìn)度提前,目前已經(jīng)結(jié)束了路徑探索。供應(yīng)鏈預(yù)計(jì)臺(tái)積電2023年下半年可望進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn),2024年正式量產(chǎn)。
GAA即環(huán)繞柵極晶體管,是FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)的取代。FinFET由華人科學(xué)家胡正明團(tuán)隊(duì)研制,首發(fā)于45nm,目前已經(jīng)推進(jìn)到5nm。
不過(guò)在5nm或者4nm之后,臺(tái)積電和三星出現(xiàn)了些許分歧,三星將在3nm就開(kāi)始應(yīng)用GAA晶體管,臺(tái)積電則是2nm。
臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音(Mark Liu)最新表態(tài)稱,位于臺(tái)中的工廠有望擴(kuò)充,以為2nm增加更多產(chǎn)能支持。
盡管臺(tái)積電在今年二季度拿到了全球晶圓代工營(yíng)收的一半,可三星的追趕步伐并未停歇。今年的RTX 30系列顯卡GPU核心、部分驍龍SoC等均選擇三星代工。
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