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ZESTRON 攜領先水基清洗技術亮相Semicon West

2018-07-05

  全球領先的電子制造及半導體加工行業精密清洗產品和技術解決方案提供商ZESTRON,將攜先進的MPC? 和 HYDRON? 清洗技術出席Semicon West 2018(美國西部國際半導體設備展覽會)。展會將于7月10日至12日在舊金山莫斯克尼展覽中心舉行,ZESTRON在5673展臺恭候您的光臨。

  MPC? 和HYDRON? 技術是由ZESTRON研發的創新型水基清洗技術。可以有效清洗DCB,IGBT,分立器件,功率LED等功率電子,同時去除為了提升綁定能力、增強潤濕性、改善烘干效果和提高產量而產生的污染物。依托兩種技術開發的產品能在減少溶劑有害成分的基礎上,依然表現出極佳的清洗效果。

  ZESTRON專為SMT行業和功率電子行業的客戶提供基于各種清洗技術的清洗液和清洗工藝。全球8個技術中心,擁有70多臺國際領先清洗設備,ZESTRON致力于為客戶尋找最優的清洗工藝及配套設備,幫助客戶智選清洗設備。


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