電子制造和半導體封裝精密清洗產(chǎn)品、工藝方案及培訓服務提供商ZESTRON將于3月22日出席2018 CEIA中國電子智能制造系列論壇之重慶，資深應用技術工程師丁一先生將為您帶來《主流清洗工藝與PH中性清洗液的應用》的演講。
隨著電子行業(yè)對產(chǎn)品可靠性要求的提高，越來越多的企業(yè)希望通過建立或優(yōu)化清洗工藝來獲得更高的產(chǎn)品可靠性和更經(jīng)濟節(jié)約的成本方案。本次演講將會展示主流清洗工藝以及分享ZESTRON清洗劑中所包含的核心技術：MPC? （微相清洗技術）和FAST? （快效表面活性劑技術）。這些創(chuàng)新型的解決方案專門設計用于徹底去除有機和無機的污染物殘留物，如助焊劑、錫膏及SMT膠水殘留等。
CEIA中國電子智能制造系列論壇重慶將在重慶富力凱悅酒店舉行，如需報名或了解清洗工藝相關的更多資訊，請關注ZESTRON微信公眾號或通過infochina@zestron.com與我們?nèi)〉寐?lián)系，我們真誠地歡迎您參加此次論壇，我們的工藝工程師也樂于為您解決日常工作中的清洗難題。
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