GlobalFoundries公司正在仔細考慮其20nm節(jié)點的低功耗和高性能等不同制程技術，而在此同時，多家晶片業(yè)高層也齊聚一堂，共同探討即將在2014年來臨的3D IC，以及進一步往7nm節(jié)點發(fā)展的途徑。

　　IBM的專家指出，下一代的20nm節(jié)點可支援最佳化的低功耗和高性能制程技術。而GlobalFoundries將在今年八月決定，是否提供這些不同的制程選項。

　　這些僅僅是今年度GSA Silicon Summit 上討論的兩個焦點。與會的晶片業(yè)高層還討論了預計在2014年到來，但仍面臨諸多挑戰(zhàn)的3D IC ，以及腳步緩慢但仍然預見可朝7nm 邁進的CMOS 微縮技術。

　　“臺積電最近表示其20nm 節(jié)點在制程最佳化方面并沒有顯著差異，但我并不這么認為，” IBM 院士暨微電子部門首席技術專家Subramanian Iyer說。“我相信，在相同的節(jié)點上??，你可以擁有兩種不同的制程，”他在主題演講中表示。

　　事實上， GlobalFoundries 正在考慮是否是在為20nm 提供高性能和低功耗制程。

　　“我們仍在與主要客戶討論該做些什么，針對性能和功耗方面，可能要做出更多取舍，” GlobalFoundries 先進技術架構主管Subramani Kengeri表示。

　　他指出， 20nm 的變化空間可能相對更加狹小，而且從經濟面來看也未必可行。IBM的Iyer則認為，臺積電決定僅提供一種20nm制程，其經濟面的考量可能多于技術面。

　　接下來，采用FinFET的14nm制程，則將為晶片產業(yè)開創(chuàng)更大的機會，如提供0.9V的高性能版本，以及0.6V的低功耗變種制程等。此外，與傳統(tǒng)轉移到一個新制程節(jié)點相較，14nm節(jié)點可提供的利益也預估將高出兩倍之多。

　　從歷史角度來看，要為每一個節(jié)點提供不同制程變化，都會需要在基礎制程上添加獨特且復雜的特性，IBM的Iyer說。他指出，過去，我們在每一代制程節(jié)點都擁有不同功能的制程，現(xiàn)在不大可能驟然讓它們完全消失。

20nm仍有變化空間??，Subramanian Iyer說

　　2014年，迎接3D IC到來

　　此外，晶片業(yè)高層也探討了幾種可望在2014年量產，采用矽穿孔（TSV）的3D IC。

　　思科系統(tǒng)（Cisco Systems）封裝專家暨技術品質部副總裁Mark Brillhart表示，3D IC將改變游戲規(guī)則。他認為3D IC將有幾種不同的形式，而且很快就會步入大量應用。

　　“自1996年的覆晶封裝技術熱潮以來，我從未想像過封裝技術能再次令人感到振奮，”Brillhart說。

　高通（Qualcomm）“非常高興”能在實驗室中采用Xilinx的2.5D FPGA來開發(fā)原型，高通工程部副總裁Nick Yu表示。他預計，運用TSV來鏈接Wide I/O的高階智慧手機用行動應用處理器最快今年或明年便可問世。

Nick Yu

　“我們會在許多不同領域看到這些強大的3D技術，”IBM的Iyer表示，他們已經制造出了數(shù)款使用TSV堆疊處理器和DRAM的原型產品。

　　目前的CPU有8～12個核心，未來還將朝采用3D IC技術，堆疊24個核心與DRAM還有散熱片的方向發(fā)展。IBM也對于‘在矽中介層上建構系統(tǒng)’（system on an interposer）的2.5D模組深感興趣，在這些模組中，記憶體晶片在矽基板上圍繞著處理器而建置，并使用去耦電容來改善功率調節(jié)性能。

　　“這個領域不斷出現(xiàn)更多的創(chuàng)新，它們將帶來更顯著的差異化，但共同點在于它們都將提供適合行動應用的優(yōu)勢，”他補充說。

　　但3D晶片仍有許多待解的難題。工程師仍不知如何解決3D IC產生的熱問題，他們需要新的測試策略和制造工具，他們也正在推動各領域的設計師們形成新的供應鏈，就各種技術和商業(yè)問題展開深入合作及探索。

　　“現(xiàn)階段，成本是3 D晶片面臨的最大問題，”高通的Yu表示。

　　他表示，臺積電提出的端對端（end-to-end） 3D服務會是低成本的說法并不能讓他信服。他進一指出，不同的3D產品會需要不同的供應鏈。

　　“設備占單位成本很大一部份，”日月光集團（ASE Group）工程暨業(yè)務部資深副總裁Rich Rice說。該公司正在安裝接合／分離（bonding/de-bonding）、晶圓薄化和其他負責處理所謂3D制程中間步驟的設備。“即使是在較傳統(tǒng)的后段制程領域，當我們決定量產，我們也必須擔負必要的資本支出，”Rice說。

　　應用材料（Applied Materials）發(fā)言人指出，業(yè)界需要新的3D系統(tǒng)，設備制造商正在努力準備為450mm晶圓和20、14nm節(jié)點做準備。

　　思科的Brillhart表示，他擔憂的事情還有很多，包括為了找到讓3D晶片獲利的可行方法，彼此競爭的公司有時也必須合作。

摩爾定律步伐緩慢

　　好消息是，專家們認為，一直到至少7nm節(jié)點，都不會出現(xiàn)根本性的障礙。但壞消息則是“更微小節(jié)點的優(yōu)勢正不斷被侵蝕，”IBM的Iyer說。

　　罪魁禍首就微影技術。今天業(yè)界采用的193nm浸入式微影技術已經被要求用在22甚至14nm節(jié)點。

Kengeri

“這導致了愈來愈高的成本，”Iyer說。“另外，復雜的圖形解決方案也讓我們感到焦慮。”

　　微影成本確實會在20nm和14nm節(jié)點劇烈飆升，GlobalFoundries的Kengeri表示。他指出，額外的復雜性以及制程和設計成本，是讓傳統(tǒng)晶片產業(yè)每兩年跨越一個技術世代的時程開始延長的主要原因之一。

　　業(yè)界多花費了三季的時間來達到符合品質要求的32/28nm技術節(jié)點，這要比過去所花費的時間多出一季，Kengeri說。“可看到整個產業(yè)的腳步正在趨緩，”他表示。

　　根據(jù)美林（Merrill Lynch）的報告，一個14nm的SoC專案成本可能會上揚到2.5億美元，Marvell Semiconductor制造部副總裁Roawen Chen說。光罩成本約700萬美元，且從投片到產出首個矽晶片的時間可能會延長到六個月，他表示。

　　“事實是它將變得更加昂貴，”Chen說。

　　但也有好消息，IBM的研究人員已經發(fā)現(xiàn)了制造出僅內含25個原子元件的方法，這為邁向7nm制程節(jié)點開啟了全新道路。“在朝7nm前進的道路上，我們并沒有看到根本性的問題存在，”Iyer說。