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臺積電10nm芯片客戶排隊 聯(lián)發(fā)科進度比蘋果海思還快

2016-12-30

環(huán)保署環(huán)差大會審查通過中科臺中園區(qū)擴建用地環(huán)差案,為臺積電明年10納米上陣添助力,有助臺積電加快在先進制程的布局,后續(xù)業(yè)績將由蘋果、聯(lián)發(fā)科海思三大客戶決定。 

臺積電的中科15廠是未來10納米及7納米先進制程生產(chǎn)重鎮(zhèn),臺積電對于環(huán)差順利過關表達感謝之意。臺積電中科15廠原本主力制程為28納米,計劃納入10納米和7納米,與南科廠的5納米并列為先進制程的重要生產(chǎn)基地,但因為10納米使用的材料與28納米不同,因此向環(huán)保署申請環(huán)境差異分析審查。此次順利過關,有助于加快在先進制程的布局。 

就半導體三強的進度來看,三星已對外宣布10納米正式量產(chǎn),臺積電也可望在第4季投產(chǎn)、明年第1季量產(chǎn)。由于10納米難度較高,外界仍觀察最重要的良率表現(xiàn)如何。英特爾的10納米產(chǎn)品量產(chǎn)時間則可能落在明年下半年。 

以客戶端需求來看,臺積電的首波10納米客戶以手機晶片公司為主,包括蘋果、聯(lián)發(fā)科及海思,但因蘋果、海思主要搭配其終端新品發(fā)布時間,因此10納米晶片量產(chǎn)進度應會以聯(lián)發(fā)科最快,明年第1季就會量產(chǎn)。 

市場日前曾傳出,由于高階客戶需求仍待觀察,聯(lián)發(fā)科近期已向臺積電下修明年度10納米需求。 

至于7納米部分,臺積電預定明年第1季進行風險性試產(chǎn),明年第4季投片,三星日前也曾對外公布7納米極紫外光(EUV)制程的最新研發(fā)進度。

 


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