臺積電昨（5）日宣布，將投資晶片設備商艾司摩爾（ASML）11.14億歐元（約新臺幣410億元），加速下一世代關鍵技術極紫外光（EUV）與18吋晶圓微影設備開發及量產，成為繼英特爾之后，第2家加入投資ASML的半導體大廠。
臺積電將斥資8.38億歐元（約新臺幣308億元），取得ASML5%股權，并承諾未來5年共投入2.76億歐元（約新臺幣102億元），支持ASML的研發計畫。臺積電截至第2季底，手中現金及約當現金約1,784億元，投資ASML資金不虞匱乏，但這項投資案的總金額也高達手上現金約25%。
這是臺積電繼投資從事電子光束研發的美商Mapper后，第2宗大手筆投資設備商且資助其先進設備研發的行動，宣示臺積電跨入18吋晶圓生產的決心。臺積電上周五收盤價79.8元，小跌0.2元。
ASML發出的投資邀約對象中，已獲得英特爾、臺積電正面回應，以英特爾出資33億歐元（約新臺幣1,214.4億元），取得ASML15%股權，并協助ASML研發，手筆最大；臺積電投資的規模，僅約英特爾的33%。同樣收到ASML投資邀約的三星，尚未表態。
臺積電董事長張忠謀先前曾表示，「臺積電沒有投資ASML的急迫性」，讓市場一度以為臺積電可能不考慮參股ASML。據了解，臺積電近1個月突然加速與ASML會商，昨天正式達成協議并簽約，臺積電也立即對外宣布這項合作案，但并未透露何時完成入股ASML。
這項合作案是由臺積電執行副總經理暨共同營運長蔣尚義，與ASML執行長艾瑞克（EricMeurice）簽訂。蔣尚義表示，臺積電挹注ASML研發經費，將確保并加快EUV微影技術的開發，同時也能提高既有光學微影工具的效能，促進18吋晶圓制造技術的快速發展。
臺積電預期，與ASML合作開發下一世代關鍵設備，將有助半導體產業控制晶圓成本，突破縮小IC尺寸所面臨的挑戰，保障摩爾定律持續演進可帶來的經濟效益。這也是臺積電與ASML先前共同開發193微米浸潤式微影技術之后，雙方長期合作關系的延伸。
